0.96 인치 TFT LCD 디스플레이

TFT 스크린에는 액정 뒷면에 특수 광 파이프가 장착되어 있으며 화면의 다양한 독립적 인 픽셀을 적극적으로 제어 할 수 있습니다. 이것은 소위 활성 매트릭스 TFT (활성 매트릭스 TFT)의 기원으로 응답 시간을 크게 향상시킬 수 있습니다. 일반적으로, TFT의 응답 시간은 약 80 밀리 초, STN은 200 밀리 초입니다. 개선이 필요한 경우 깜박임이 수동 매트릭스 OLED가 발생합니다 . 그리고 TFT는 활성 매트릭스 LCD이기 때문에 액정의 배열을 암기 할 수 있으며, 전류가 유기농 광 방출 다이오드 디스플레이를 사라진 직후 원래 상태로 돌아 가지 않을 것입니다 .

TFT 디스플레이의 디스플레이는 역전적인 조명 모드를 채택합니다. 가정 된 광원 경로는 TNLCD와 같이 위에서 아래로가 아니라 0.96 인치 OLED와 같이 상단에서 아래로입니다 . 이 방법은 LCD 뒷면에 특수 광 파이프를 설정하는 것이며, 광원은 조사 할 때 하부 편광기를 통해 위쪽으로 침투합니다. 상단 및 하부 중간층 전극이 FET 전극 및 공통 전극으로 변경되기 때문에 FET 전극이 켜지면 LCD 통합의 성능도 변하고, 가벼운 차폐 및 광 변속기를 통해 디스플레이의 목적을 달성 할 수 있습니다. 응답 시간은 약 80 밀리 초로 크게 향상됩니다. 대비 비율이 높고, 더 풍부한 색상 및 더 빠른 화면 업데이트 주파수가 TN-LCD보다 더 빠르기 때문에, TFT는 일반적으로 True Color 0.42-1.3 인치 OLED 로 알려져 있습니다 .

DSTN과 비교하여 TFT-LCD의 주요 특징은 각 픽셀에 대한 반도체 스위칭 장치를 구성하는 것입니다. 각 픽셀은 도트 펄스로 직접 제어 할 수 있기 때문입니다. 따라서 각 노드는 비교적 독립적이며 지속적으로 제어 될 수 있습니다. 이 설계 방법은 디스플레이 화면의 응답 속도를 향상시킬뿐만 아니라 디스플레이 회색 레벨을 정확하게 제어하므로 TFT의 색상이 DSTN보다 더 현실적입니다.

TFT는 또한 STN 깜박임 (물 리플)의 흐릿함을 향상시키고 동적 이미지를 재생하는 능력을 효과적으로 향상시킵니다. STN과 비교할 때 TFT는 우수한 색상 포화, 회복 능력 및 높은 대비를 가지지 만 단점은 높은 전력 소비 및 높은 비용입니다.

TFT LCD 화면 기술 특성

TFT 기술은 1990 년대에 개발되었습니다. 새로운 재료와 새로운 공정을 사용한 대규모 반도체 전체 통합 회로 제조 기술은 액정, 무기 및 유기 박막 전기 발광 (EL 및 OEL) 평면 패널 디스플레이의 기초입니다. TFT는 유리 또는 플라스틱 기판과 같은 비 단일 웨이퍼입니다 (물론 웨이퍼에도있을 수도 있음). 제조 회로에 필요한 다양한 박막은 스퍼터링 및 화학 증착 기술을 통해 형성되며, 대규모 반도체 통합 회로 (LSIC)는 박막 가공을 통해 제조됩니다. 비 단일 결정 기판의 사용은 비용을 크게 줄일 수 있습니다. 이것은 전통적인 대규모 통합 회로를 대규모 지역, 다중 기능 및 저비용 방향으로 확장 한 것입니다. 실리콘에서 대규모 통합 회로를 제조하는 것보다 대규모 유리 또는 플라스틱 기판에서 픽셀 (LC 또는 OLED)의 스위칭 성능을 제어하는 ​​TFT를 제조하는 것이 더 어렵습니다. 생산 환경에 대한 요구 사항 (정화 정도는 100), 원료의 순도 (전자 가스의 순도는 99.999985%) 및 생산 장비 및 생산 장비의 주요 요구 사항은 반도체 기술을 초과합니다.